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理化学研究所　有機高分子材料の改良型薄膜形成法を発表 (2009/07/02)

理化学研究所は、有機高分子材料により高品質な薄膜を形成することができる改良型ESD法を発表しました。

有機高分子材料は、次世代のディスプレーや半導体の材料として期待されていますが、一方で、耐性の問題からシリコンなどのような無機材料のように、真空や高温条件化で薄膜形成を行うことができません。
そこで、有機高分子材料への薄膜形成は、静電気を利用したエレクトロスプレー・デポジション法(ESD法)が有効だと考えられていたのですが、薄膜上にピンホールができてしまうという欠点がありました。

この度の改良法では、2種類の異なる蒸発速度を持つ溶媒を適切な割合で混合しながらESD法を実施するというもので、ピンホールの形成を抑え、高品質な薄膜を有機高分子材料上に形成させることに成功しました。

ESD法は有機半導体を製造するために用いる他、DNAチップなどの製造にも用いられます。
有機半導体の製造のほか、ESD法が実施されている分野で、改良方法として応用が期待されます。

プレスリリース